自从氮化镓,碳化硅的宽禁带优势被充分利用后,高性能第三代半导体材料迅速改变了我们的生活。小而快的充电设备成为大众所需,各种快充技术不断涌现。效率高、体积小的氮化镓快充应运而生,迅速成为行业焦点,快充市场也随之成为第三代半导体发展的重要增长点。
英诺赛科作为全球领先的硅基氮化镓IDM企业,当前出货量已突破1500万颗,其中应用于快充的高压器件已经被联想、努比亚、魅族、Lapo、ROCK、REMAX、品胜、MOMAX、QCY等多家知名品牌和厂商的上百款产品所采用,出货量达900万颗,成为全球GaN功率器件出货量最大的品牌之一。在即将到来的快充产业峰会上,英诺赛科也将同步展示适应全功率段的主推氮化镓功率器件INN650D150A、INN650DA150A、INN650D260A、INN650DA260A,搭配超薄的DFN封装,实现高密度、高频、高可靠性、简洁的快充方案设计。
下面就来具体看看这四个器件的性能优势。
INN650D150A
INN650D150A支持超高开关频率,无反向恢复电荷,具有极低的栅极电荷和输出电荷,符合JEDEC标准的工业应用要求,内置ESD保护,符合RoHS、无铅、欧盟REACH法规。同时,INN650D150A采用DFN8*8封装,可直接替换INN650D01和INN650D02等。
INN650DA150A
INN650DA150A具有极低的热阻,搭配DFN5*6封装,可应用于高功率密度场合,提供高功率输出。支持超高开关频率,无反向恢复电荷,具有极低的栅极电荷和输出电荷,符合JEDEC标准的工业应用要求,内置ESD保护,符合RoHS、无铅、欧盟REACH法规。
INN650D260A
INN650D260A支持超高开关频率,无反向恢复电荷,具有极低的栅极电荷和输出电荷,符合JEDEC标准的工业应用要求,内置ESD保护,符合RoHS、无铅、欧盟REACH法规。
INN650DA260A
INN650DA260A支持超高开关频率,无反向恢复电荷,具有极低的栅极电荷和输出电荷,符合JEDEC标准的工业应用要求,内置ESD保护,符合RoHS、无铅、欧盟REACH法规。
INN650DA260A采用DFN5*6封装,相比DFN8*8,体积明显减小,功率密度有较大提升。可用于开关电源、DC-DC转换、图腾柱PFC、电池快充、高能效高功率密度功率转换应用。
英诺赛科本次推出的新品,在导阻上做了大幅升级,其中耐压均为常用的650V,具有两种导阻规格,并且分别具有两种封装,适用于不同功率的开关应用。DFN8*8可用于替换老产品升级性能,也可以采用DFN5*6封装于新设计,实现更高的功率密度。
在半导体国产化的大时代背景下,借助USB PD普及的东风,英诺赛科InnoGaN系列产品在消费类电源大放异彩,为客户推出先进的氮化镓解决方案,并与合作伙伴共同推出优秀的氮化镓应用方案,助力第三代半导体器件普及。作为行业内唯一一家高低压产品同时量产出货的公司,英诺赛科功率器件被广泛应用于多个新兴领域,如快充、5G通信、人工智能、自动驾驶和数据中心等。在这些领域中,发挥氮化镓的优势,提高电源效率。通过高效率的电源转换,推动绿色低碳发展。
全球第三代半导体快充产业峰会(7月30日)即将拉开序幕,英诺赛科(展位号:B03-B04)期待为您展示最全、最新、最高效的产品与解决方案!
评论 (0)